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substance painter中文破解版

v2021

substance painter中文破解版

  • 软件大小:1516 MB
  • 软件语言:简体中文
  • 软件授权:共享软件
  • 软件类型:图形软件
  • 软件平台:WinAll
  • 更新时间:2022-01-21 14:58
  • 星级评分:4级
  • 软件官网:https://www.downza.com/
好评:50%顶一个
坏评:50踩一个

substance painter简介

substance painter 2021中文破解版是一款3D绘图软件,允许用户在电脑上快速绘制和渲染模型,为用户设计游戏角色和动画模型提供更多的绘图和渲染。内置烘焙、特效、智能材质和遮罩、自动UV扩散、UV投影、UV贴片、后期处理、地下散射、光线渲染器、动态材质分层、稀疏虚拟纹理、自定义着色器等功能,在处理模型时可以选择相应的烘焙和渲染器渲染3D绘图作品,用户可以选择不同的材质进行绘制或粒子特效处理3D模型,在此软件中既可以设计角色建模,也可以设计实体建模。

substance painter 新版功能

新几何遮罩

几何蒙版是图层堆栈中的一个新蒙版工具,可以根据网格名称或UV贴图隐藏几何。它是对以前命名的紫外线瓷砖遮罩的改进,该遮罩基于UDIM数来遮罩几何图形。

与传统绘画(或使用“多边形填充”时)相比,这种新工具是隐藏几何图形的更好方法,因为它受益于许多引擎优化。它也是非假的,因为它不存储几何图形(如面或顶点),但存储网格名称或紫外平铺编号,因此重新导入网格不会被屏蔽。另一个优点是,隐藏的几何图形可以绘制在纹理集中以前无法访问的表面上,从而避免了将对象分割成多个纹理集的需要。

的新几何遮罩可自动用于层堆栈中的任何层。默认情况下,它不起作用,这意味着图层是完全可见的。

几何遮罩有自己的上下文菜单,可以快速选择或取消选择它的所有项目,或将它的值复制到另一层。

编辑几何遮罩亏格

几何遮罩遵循与其他图层的上下文相同的逻辑(例如,编辑遮罩或实例化属)。要进入几何遮罩编辑模式,只需单击图层右侧的虚线方块。要退出几何蒙版,请单击同一层或绘制蒙版的内容。

通过栅格名称或紫外线平铺

“几何蒙版”类别的顶部是一个下拉菜单,用于控制蒙版模式。您可以根据紫外线贴图编号或栅格名称进行选择。仅当项目不使用紫外平铺工作流时,此下拉列表才会被禁用并设置为网格名称。

通过通用掩模几何图形

编辑几何蒙版时,亏格窗口将根据与当前纹理集相关的几何图形显示网格名称(或紫外线切片)列表。

列表顶部的数字表示可用总数中未屏蔽的栅格/紫外线切片的数量。

数字旁边的菜单提供了快速控制,可以选择全部或无项目,甚至可以反转当前选择。

以下列表定义了哪些项目被阻止。与应用程序中的其他列表一样,您可以单击并拖动来同时启用/禁用多个项目,或者使用ALT+Click来隔离项目。

通过视口遮罩几何图形

您也可以在2D视图和三维视图中更改几何遮罩选择。只需将鼠标移动到应该可见/隐藏的部分,单击它即可切换其状态。编辑几何遮罩时,显示的遮罩几何具有灰色和对角线效果。您也可以通过单击和拖动来进行矩形选择,以便一次选择多个项目。

绘制/不可访问的几何图形。

在“几何图形蒙版”中选择要蒙版的几何图形后,可以启用视口顶部的“隐藏/忽略排除的几何图形”按钮(或按ALT+H快捷键)。启用后,排除的几何图形(和其他“纹理集”)将被隐藏,仅显示当前层包含/可以绘制的几何图形。使用此选项绘制以前被阻止或无法到达的区域。该选项也适用于任何类型的图层。

用蒙版几何图形绘画仍然是动态的:如果一些阻碍绘画的几何图形最初在笔触过程中被隐藏,并且被取消蒙版,它将再次阻碍先前的笔触。

堆叠效果的新拷贝和粘贴

现在,你可以像普通图层一样在图层和图层堆栈之间复制效果。

现在,可以进行多种选择,提供一次复制和粘贴多种效果的可能性。

为了方便起见,从图层上的蒙版复制或移动效果,但没有任何效果会自动添加效果。这是因为图层内容和遮罩的效果彼此不兼容。这意味着将效果从蒙版复制到图层内容将自动切换到蒙版(或创建蒙版)。

substance painter 软件特色

1、烘焙

烘焙是指将基于网格的转换为纹理的动作。,由着色器和/或物质过滤器读取以执行高级效果。比如智能材料、智能口罩都依赖于它们。

2.特技

效果是一组可应用于材质绘制器层堆栈中的层或遮罩内容的各种动作。它们允许创建从简单的颜色变化到复杂的遮罩的无限变化。默认情况下,实体绘制器附带几种效果,但您也可以在实体设计器中创建自己的工具。

3.紫外线瓷砖

紫外线贴图是一种在纹理集中的多个紫外线范围内对多组纹理进行纹理化的方法。

默认情况下,当使用传统工作流程时,纹理将在每个紫外线范围内重复。随着紫外线瓷砖,每个范围将成为一个专用的纹理。通过将紫外线分成纹理组,该工作流程实际上提高了整体纹理分辨率。紫外线瓷砖目前只支持UDIM命名惯例。

4.后处理

后效是可应用于“实体绘制者”视口中渲染的图像的滤镜,以模拟常见的相机效果。

Substance Painter的后处理效果得到了中间件Yebis的支持。效果可以独立启用,但必须先启用主后处理系统。

5.地下分散

实体绘制器支持实时视口和Iray渲染器中的子场景分散。

地下散射是光线穿透物体或表面的一种机制。一部分光不像金属表面那样反射,而是被材料吸收,在内部散射。这种行为通常被缩写为“小号UB小号uce小号catteng”称为SSS。现实生活中很多材料表面下都有粉末,比如皮肤或者蜡。

substance painter 安装方法

1.打开Setup.exe直接安装主程序。

2.提示软件安装协议内容并接受协议。

3.软件的安装地址是C: pg RAM文件 allegothmic 实体画师。

4.提示软件的启动图标设置,检查界面的选项。

5.提示安装准备界面,点击安装。

6.提示安装进度条,等待软件安装到计算机上。

7.substance painter 2021已安装。不要启动软件。

substance painter 破解方法

1.将补丁物质Painter.exe复制到安装地址,替换主程序以完成激活。

2.替换地址是C: pg RAM文件快板实体画师。单击以替换此目标文件。

3.现在打开软件使用。实体画师是中国软件。如果可以用,请下载。

substance painter 使用说明

画笔

绘图工具是实体绘制器的默认工具,用于在三维网格上应用颜色和材质。它有特定的参数,可以通过“种类”窗口进行编辑。

“绘画”工具通过各种行为和设置模拟笔画,给人以在3D网格上绘画的感觉。

工具栏

上下文工具栏将显示以下快捷方式(请参见下一章):

措施

流动

笔画不透明度

间隔

提供其他工具常见的其他快捷方式:

懒惰的老鼠

对称的

试映

“种类”窗口的顶部是笔刷和材质预览。它们可以用来快速浏览当前工具的设置方式。

描述

画笔预览

笔刷预览根据笔刷参数显示笔刷行为。您可以在预览中单击以绘制自定义笔画。

画笔预览:不支持笔压。

材料预览

材质预览显示当前用于绘画的材质种类。您可以单击“预览”来旋转灯光,并在绘画前更好地查看材质的行为。

笔刷参数是定义笔刷在三维网格上执行时的外观的一种感觉。

使用平板电脑时,某些参数可能会受到笔压的控制。这也可以保存在预置中。

单击专用按钮启用或禁用压力:

描述

1.大小

控制笔划中图章的大小。画笔的相对大小可以根据定义的相对空间进行更改(参见下面的“对齐大小空间”参数)。

这个参数可以通过笔压来控制。

2.流动

单一内部密封的强度或不透明度。

这个参数可以通过笔压来控制。

3.笔画不透明

笔画的最大全局不透明度。与“流动”参数相反,“笔画不透明度”不能由“笔压”控制,因为它应用于笔画绘制过程的末尾。

和笔画不透明度:

左:流速为50%,笔画不透明度为100%。

右图:流速为100%,笔画不透明度为50%。

按快捷键“A”,可以像上图动画一样继续上一笔。

4.间隔

笔画印记之间的距离。较小的值可以创建一条连续的线,但计算总数较大,因此计算范围较宽。较高的值会在密封件之间产生间隙,这可能更适合特定的图案(如木钉)。

5.角

触摸内部密封的方向。如果没有正确对齐,可以使用它来旋转Alpha。可与跟随路径结合使用。

6.沿着小路走

将密封件定位在行程内,以符合图纸方向。

为了计算笔画方向,实体绘制器将前一个图章与当前图章进行比较,这就是为什么在启用“跟随路径”后单击不会产生任何结果的原因。启用此功能时,至少需要两枚印章来绘制笔画。

7.尺寸抖动

将随机大小值应用于画笔笔迹内的每个图章。值为0表示不随机,值为1表示完全随机。

8.流量抖动

将随机流量值应用于画笔笔迹内的每个图章。值为0表示不随机,值为1表示完全随机。

9.角度抖动

一个额外的旋转角度被随机地应用到笔刷笔划内的每个印记。值为0表示不随机,值为1表示完全随机。

10.位置抖动

将随机位置偏移应用于笔刷笔划内的每个图章。值为0表示不随机,值为1表示完全随机。

1.对齐

确定笔刷笔划内的图章在三维网格表面上的投影/定向方式。可以使用以下值:

相机:将图章朝向视口。

切线环绕(默认):放置图章以与三维网格表面对齐。压模也会变形以符合表面。

切线:调整图章的方向,使其与三维网格表面对齐。印章会使其边界离三维网格表面太远而褪色。

UV:基于3D网格的UV定位戳。

12.反向剔除

允许忽略3D网格上未与图章对齐的表面。为了计算应该忽略3D网格的哪些部分,绘图引擎查看3D网格表面的法线,并将其角度与定义的值进行比较。

13.尺寸和空间

控制画笔大小的相对空间。的可能值为:

对象(默认):笔刷大小与三维网格大小同步。在视口中移动相机会影响尺寸,使其相对于三维网格保持不变。

视口:画笔大小链接到视口。调整界面大小会影响画笔大小。移动相机不会有任何影响。

纹理:笔刷大小与2D视口缩放级别相关联。

α

Alpha是应用于笔刷笔划中每个图章的灰色遮罩。它可以是材质文件或位图。

如果材料图有暴露的参数“硬度”(标识符),可以使用“硬度”键盘快捷键来控制。

物理学

物理是一种粒子,允许在绘画过程中控制投影。

默认情况下,物理属不可用,但可以通过两种方式启用:

在工具栏中将工具切换到“物理”(或通过键盘快捷键)。

通过点按“架子”中的“粒子”笔刷预设。

模版

模板是笔画的附加灰色遮罩。与应用于每个单独图章的Alpha相反,模板是从视口视角应用的全局遮罩。

您可以通过按下S键并单击视口右上角的重置按钮来重置模具转换:

模式视图

未加载任何资源。

当没有加载资源时,模具将无效。

按住键盘快捷键“n”可以在不删除资源的情况下暂时禁用模板掩码。

移动模具

您可以通过按下S键,用鼠标中键单击并拖动来移动模具。

旋转模具

旋转模板可以通过按下S键,用鼠标左键点击和拖动来完成。

此外,按下Shift键捕捉每90度的旋转。

调整模具尺寸

调整模板的大小可以通过按下S键,用鼠标右键单击并拖动来完成。

平铺模式设置控制模板遮罩在视口中的重用方式(此设置也会影响纹理):

平铺模式描述

无平铺(默认)

模板掩码不会重复。

水平平铺

仅在水平轴上重复模板遮罩。

垂直平铺

仅在垂直轴上重复模板遮罩。

以及水平和垂直平铺

在水平轴和垂直轴上重复使用模板遮罩。

材料

该材料由多个通道组成,每个通道保留一个特定的属。通道列表取决于“纹理集设置”窗口中定义的通道。

“材质模式”按钮是加载材质文件或预设的简单方法,可以一次快速分配和编辑多个通道。

点按频道按钮将选择或取消选择它。取消选择通道后,不能修改,也不会用于绘画。

架子

在架子上,您可以管理项目、当前会话或磁盘上的所有可用资产和资源。

书架上可以列出各种文件。从位图到实体文件,甚至自定义画笔预设。

带搁板的窗户有两种:主搁板和副搁板。

主书架允许您管理书架预设和浏览各种资源。

子帧是可以在界面中随时创建的自定义窗口。从货架预设创建。

货架上的导航

默认工具栏

工具栏预置包含多用途按钮列表:

1.展开/折叠预设列表

2.将货架预设或当前搜索结果提取到新窗口中。

3.将当前过滤器保存到新的搁板预设中。

4.隐藏默认预设

5.导入新资源

默认列表

预设包含所有现有预设的列表。

默认值不能删除,但可以通过专用按钮隐藏。您可以随时重命名或删除新创建的预置。

将预置提取到专用窗口后,更新预置不会更新窗口。它们不是动态链接的。

筛选和搜索字段

1.打开面板以配置当前过滤。

2.将当前搜索查询重置为默认值(如果已被修改)

3.当前搜索查询(使用鼠标查看描述完整查询的工具提示)

4.搜索字段,用于键入其他关键词,改善当前过滤条件。

查看资产

您可以右键单击货架中的资产了解更多信息:

将显示上下文菜单:

名称:资产的名称(如果是默认名称,可以重命名)。

用法:资源搜索引用的用法类型用于筛选搜索。

路径:资产的位置。它可以是项目(对于当前项目)、会话或盘架的名称。(您可以添加自定义货架位置。)

从当前工具更新:预设将根据工具窗口中可用的当前参数进行更新。

删除:如果有预置,会从磁盘上删除资产。如果这样做,您可以使用“撤消”按钮。

导出到材料共享:打开一个窗口,允许将资产导出到材料共享。

设置/更新自定义预览:允许您为此资产指定自定义缩略图。

关闭:关闭上下文菜单。

过滤货架内容

1.路径:允许通过文件夹/文件夹结构优化搜索结果。

2.用法:列出应用程序中所有可用的用法。

3.文本查询:任何其他类型的查询(如自定义关键字)都允许自由添加。

定义新的搜索查询时有许多选择。

小路

路径允许根据路径优化查询。树状视图列出了所有可用的盘架(在主首选项中定义)。

因此,它可以用于按自定义盘架路径或层次结构中的特定子文件夹进行筛选。

使用

用法定义了什么是资源以及如何在实体绘制器中使用它。有些可以由资源的文件类型定义,而有些则不能。

示例:

Pbr.glsl:着色器文件,只能在一个地方使用。

Effect.sbsar:一个材质文件,可以是遮罩生成器、滤镜甚至是材质。

这就是为什么在将资源导入机架时,正确指定资源的使用非常重要,否则应用程序会错误地识别它。

文本

文本查询支持多种类型的过滤,其中一些比传统界面更高级。

您可以通过键入正确的关键字来启用它们。

可用的搜索类型:

n::名称

s:“:架(包括“会话”和“项目”)

p::路径

u::用法

转义:可以在要转义的字符前使用“”,也可以使用引号,例如:

名称带空格

"带空格的名称"

特定属(或组):要搜索特定属,请在“或组”前添加类型描述符。示例:

n:甲、乙、丙、丁:名字是甲或乙或丙或丁

搜索行为:

要过滤特定的用法,请在搜索中添加特定的关键词,例如“围绕图像”

要添加多个请求,请使用逗号"",例如“钴、金”(如果您使用逗号,搜索将只显示同时匹配这两个关键字的资源)

要搜索确切的名称,请使用感叹号“!”最后举个例子:di!(灰尘将被退回,但不会滴落,此关键字禁用模糊匹配)

要从搜索中排除模式,请使用连字符“& # 8211;”,例如:u: u:image n:-normal(将返回没有“normal”的图像)

匹配功能(模式后缀):

默认:近似匹配(模糊)

包含:!

正则表达式:

等于:=

从:。

结尾为:。

将内容添加到货架

通过导入窗口添加内容

打开导入窗口

您可以通过三种不同的方式调用实体绘制器的导入窗口:

传递文件>:导入资源& # 8230;菜单项

将一个或多个文件/文件夹拖放到书架窗口中。

通过货架窗口中的专用按钮(见下图)

货架上的导入按钮:

导入窗口

添加资源:允许您选择其他文件来导入它们。

删除选定的资源:如果在列表中选择了一个文件,此按钮将删除它。

下拉过滤器:允许您按使用过滤文件列表。这对于隔离当前未定义的资源非常有用。

用法:有关更多信息,请参见下面的“用法”部分。

前缀:前缀可以是定义资源存储位置的文件夹路径。

文件名:当前资源的名称。有时,您可以指出找到资源的文件夹,这在导入过程中将不会用到。

导入位置:可以是:

当前会话:进入临时会话后,重新启动应用程序后资源将会丢失。

项目名称:输入当前打开的项目文件。资源嵌入在spp文件中。

盘架“盘架名称”:输入定义为可写的当前盘架。有关更多信息,请参见本页:盘架配置。

您可以在导入窗口中一次选择多个项目,以快速编辑一些项目:

环境设置

这部分显示控制项目场景中的照明。

环境

设置:描述

环境地图:

用于照亮场景的环境贴图纹理。您可以使用“环境”预置在货架上找到它。

单击按钮打开一个迷你书架并选择另一个环境地图。

环境不透明度:

控制视口背景中环境纹理的可见性/不透明度。此设置对场景的照明没有影响。

环境暴露:

曝光值(EV)是表示固定场景亮度的数字。该设置允许偏离默认亮度值。

使用实体绘制器提供的环境贴图时,此设置应保持为0。曝光值错误的纹理资产可能会在其他应用中导致颜色校准问题。

环境旋转:

控制环境纹理的水平旋转。用于旋转场景中的灯光并改变对象的反应。可以用捷径控制。

模糊环境:

控制视口背景中环境纹理的清晰度或模糊度。此设置对照明没有影响。

阴影

设置:描述

阴影:

启用/禁用视口中的阴影渲染。

计算方法;

控制阴影的计算速度。

密集:计算速度快,但视口渲染会被冻结。

平均值:密集和轻量模式的平均值。

轻量级:(默认)计算可以减缓阴影几秒钟,但不会减少视口能量。

阴影不透明度:

控制场景中阴影的可见性。

摄像机设置

显示的这一部分控制摄像机的行为和视口图像的最终外观。

照相机

设置:描述

视野:

允许您控制摄像机的视野(以度为单位)

聚焦距离:

定义焦点所在的距离。

景深效果使用该点。

您可以通过使用快捷键CTRL+鼠标中键单击网格点来自动设置“焦点距离”。

光圈:

定义景深的宽度。

如果Iray正在控制此参数,更改它将再次触发计算。

后期特效

更多信息,请参考后期效果页面。

暂时抗锯齿

启用时,临时抗锯齿(TAA)会移除视口中的锯齿边缘。

TAA通过累积多个渲染帧来工作,这意味着在相机停止移动或执行其他任务之前,效果始终处于禁用状态。

设置描述

累积:

许多帧定义将被累积以减少混叠。

16:大多数情况下的推荐值

:用于清除非常高的对比度值(例如,结合抖动使用Alpha测试着色器)

此设置对性能没有影响,但较高的值可能需要更长时间才能完成以产生良好的结果。

如果启用了Alpha抖动设置,抗锯齿也可用于过滤Alpha测试着色器:

地下粉末

颜色配置文件

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